Academic Thesis
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Basic information
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| Name | Kikuchi Hiroki |
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Rayleigh criterion: The paradigm of photolithography equipment.
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Joint Author
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共著者：高橋伸夫
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担当部分：共同研究につき本人担当部分抽出不可能。 半導体露光装置の開発において、Rayleigh Criterionがパラダイムとして機能し、これに則り微細化が進められてきたことを明らかにした。
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Annals of Business Administrative Science
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16
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5
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203
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213
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2017/07
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Research papers (academic journals)
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